宜城晶瑞新材料有限公司

一文讀懂納米氧化鋅的應用?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）是--種功能精細無機產品，表現出許多特殊的性質，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等。?下面簡單介紹一下納米氧化鋅應用。?橡膠工業比表面積大，活性更強，可以作為硫化活性劑等功能性添加劑，提高橡膠制品的光潔性、耐磨性、機械強度和舒緩老化性能指標，減少普通氧化鋅的使用量，延長使用壽命。?陶瓷工業作為乳瓷釉料和助熔劑，可降低燒結溫度、提高光澤度和柔韌性，有著不錯的性能;?電力電子納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）壓敏電阻的非線性特性使其能起到過壓保護，抗雷擊，瞬間脈沖的作用，成為應用廣泛的壓敏變阻器材料。研究證明，避雷器專項使用納米氧化鋅壓敏電阻的非線性系數a =45，臨界電場值大于1000V，漏電流小于1μ A。?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）具有很強的吸收紅外線的能力，吸收率和熱熔的比值大，可用于紅外線檢測器和紅外線傳感器。納米氧化鋅還具有質里輕、顏色淺、吸波能力強等特點，能有效的吸收雷達波，并進行衰減，應用于新型的吸波隱身材料;?自1991年發現碳納米管以來，低維納米材料(如線狀、帶狀、棒狀和管狀等〉由于其本身的獨特性質和在納器件中的潛在應用倍受人們的關注。氧化鋅（ZnO)是一種重要的光電半導體材料,在室溫下具有較寬的禁帶寬度(3137eV)和較大的激子束縛能（3137ev）。并廣乏的應用于光電二較管，傳感器，壓敏電阻和光電探測器。特別是ZnO納米結構的室溫紫外光發射現象的發現，使ZnO（VK-J30,VK-J50）再次成為短波半導體激光器件材料研究的點。?紡織工業具有良好的紫外線屏蔽性和優越的平衡菌落、平衡菌落性能，添加入織物中，能賦予織物以防曬、平衡菌落、除臭等功能;?飼料工業納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）作為一種納米材料，具有gao效的生物學活性、吸收率高、舒緩反應能力強、安全穩定性等特性，是目前比較理想的鋅源。在飼料中用納米氧化鋅替代高鋅，既可以解決動物體對鋅的需求量，也減少了對環境的污染。使用氧化鋅可以起到平衡菌落平衡菌落的作用，同時改善動物生產性能。??涂料及其他領域?金屬氧化物粉末如氧化鋅（VK-J30,VK-J50）、二氧化鈦（VK-TA18,VK-T25）、二氧化硅（VK-SP30,VK-SP10）、三氧化二鋁(VK-L30,VK-L20Y)及氧化鎂（VK-Mg30）等，將這些粉末制成納米級時，由于微粒之尺寸與光波相當或更小時，由于尺寸效應導致使導帶及價帶的間隔增加，故光吸收顯著增強。各種粉末對光線的遮蔽及反射效率有不同的差異。以氧化鋅及二氧化鈦比較時，波長小于350納米(UVB) 時，兩者遮蔽效率相近，但是在350~ 400mm (UVA)時，氧化鋅的遮蔽效率明顯高于二氧化鈦。同時氧化鋅(n=1. 9)的折射率小于二氧化鈦(n=2.6) ，對光的漫反射率較低，使得纖維透明度較高且利于紡織品染整。?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）還可用來制造遠紅外線反射纖維的材料，俗稱遠紅外陶瓷粉。而這種遠紅外線反射功能纖維是通過吸收人體發射出的熱量，并且再向人體輻射一定波長范圍的遠紅外線，除了可使人體皮下籌備中血液流量增加，促進血液循環外，還可遮蔽紅外線，減少熱量損失，故此纖維較-般纖維蓄熱保溫。?? [詳情]

一文讀懂納米氧化鋅的應用?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）是--種功能精細無機產品，表現出許多特殊的性質，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等。?下面簡單介紹一下納米氧化鋅應用。?橡膠工業比表面積大，活性更強，可以作為硫化活性劑等功能性添加劑，提高橡膠制品的光潔性、耐磨性、機械強度和舒緩老化性能指標，減少普通氧化鋅的使用量，延長使用壽命。?陶瓷工業作為乳瓷釉料和助熔劑，可降低燒結溫度、提高光澤度和柔韌性，有著不錯的性能;?電力電子納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）壓敏電阻的非線性特性使其能起到過壓保護，抗雷擊，瞬間脈沖的作用，成為應用廣泛的壓敏變阻器材料。研究證明，避雷器專項使用納米氧化鋅壓敏電阻的非線性系數a =45，臨界電場值大于1000V，漏電流小于1μ A。?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）具有很強的吸收紅外線的能力，吸收率和熱熔的比值大，可用于紅外線檢測器和紅外線傳感器。納米氧化鋅還具有質里輕、顏色淺、吸波能力強等特點，能有效的吸收雷達波，并進行衰減，應用于新型的吸波隱身材料;?自1991年發現碳納米管以來，低維納米材料(如線狀、帶狀、棒狀和管狀等〉由于其本身的獨特性質和在納器件中的潛在應用倍受人們的關注。氧化鋅（ZnO)是一種重要的光電半導體材料,在室溫下具有較寬的禁帶寬度(3137eV)和較大的激子束縛能（3137ev）。并廣乏的應用于光電二較管，傳感器，壓敏電阻和光電探測器。特別是ZnO納米結構的室溫紫外光發射現象的發現，使ZnO（VK-J30,VK-J50）再次成為短波半導體激光器件材料研究的點。?紡織工業具有良好的紫外線屏蔽性和優越的平衡菌落、平衡菌落性能，添加入織物中，能賦予織物以防曬、平衡菌落、除臭等功能;?飼料工業納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）作為一種納米材料，具有gao效的生物學活性、吸收率高、舒緩反應能力強、安全穩定性等特性，是目前比較理想的鋅源。在飼料中用納米氧化鋅替代高鋅，既可以解決動物體對鋅的需求量，也減少了對環境的污染。使用氧化鋅可以起到平衡菌落平衡菌落的作用，同時改善動物生產性能。??涂料及其他領域?金屬氧化物粉末如氧化鋅（VK-J30,VK-J50）、二氧化鈦（VK-TA18,VK-T25）、二氧化硅（VK-SP30,VK-SP10）、三氧化二鋁(VK-L30,VK-L20Y)及氧化鎂（VK-Mg30）等，將這些粉末制成納米級時，由于微粒之尺寸與光波相當或更小時，由于尺寸效應導致使導帶及價帶的間隔增加，故光吸收顯著增強。各種粉末對光線的遮蔽及反射效率有不同的差異。以氧化鋅及二氧化鈦比較時，波長小于350納米(UVB) 時，兩者遮蔽效率相近，但是在350~ 400mm (UVA)時，氧化鋅的遮蔽效率明顯高于二氧化鈦。同時氧化鋅(n=1. 9)的折射率小于二氧化鈦(n=2.6) ，對光的漫反射率較低，使得纖維透明度較高且利于紡織品染整。?納米氧化鋅（VK-J30,VK-J50）還可用來制造遠紅外線反射纖維的材料，俗稱遠紅外陶瓷粉。而這種遠紅外線反射功能纖維是通過吸收人體發射出的熱量，并且再向人體輻射一定波長范圍的遠紅外線，除了可使人體皮下籌備中血液流量增加，促進血液循環外，還可遮蔽紅外線，減少熱量損失，故此纖維較-般纖維蓄熱保溫。 [詳情]

納米二氧化硅拋光液的應用?由于納米二氧化硅成本相對較低，且具有良好的分散性、機械磨損性，高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優良的CM P技術用的拋光材料.，因而常被用于金屬、藍寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導攝像管等表面準確拋光。化學機械拋光（CMP）技術是目前各類顯示屏、手機部件、藍寶石、不銹鋼、單晶硅片等領域使用廣泛的表面超準確加工技術，研磨拋光材料是化學機械拋光過程中必不可少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化鈰、氧化硅、氧化鋁和金剛石(鉆石)。氧化鈰主要用于玻璃晶體等拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光，而納米二氧化硅拋光液主要用于許多材料表面準確拋光。這幾種材料往往可以搭配使用，組成研磨-拋光的理想材料。本次介紹下納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）的應用。納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）應用特性：1、納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）由高純納米二氧化硅復合配置而成，通過高科技術分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。2、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會對加工件造成物理損傷，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的3、高純度，拋光液不腐蝕設備，使用的安全性能高。4、高達到高平坦化研磨加工。5、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。???納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）使用范圍：1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統、光導攝像管等的加工過程。4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、準確光學器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級及亞納米級拋光加工。5、本產品可以作為一種添加劑，也可應用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。指標：型號外觀粒徑含量應用VK-SP50W白色乳液50nm20-30%準確拋光VK-SP50F拋光粉白色粉體50nm99.8準確拋光?? [詳情]

氧化鈰在拋光上的前景?信息和光電子領域的高速發展促進了化學機械拋光 (CMP)技術的不斷更新。除了設備和材料外 , 非常高精度表面的獲取更有賴于研磨粒子的設計與工業化生產,以及相應的拋光漿料的調配。而且隨著表面加工精度和效率要求的不斷提高，對拋光材料的要求也越來越高。二氧化鈰在微電子器件和準確光學元器件表面準確加工中已經得到廣泛應用。氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）拋光粉因具有切削能力強，拋光效率高，拋光精度高，拋光質量好，操作環境清潔，污染小，使用壽命長等優點，而在光學準確拋光和CMP等領域占有較其重要的地位。?氧化是基本性質：二氧化鈰，又稱氧化鈰，為鈰的氧化物，此時鈰的化合價為+4價，化學式為CeO2。純品為白色重質粉末或立方體結晶，不純品為淺顏色甚至粉紅色至紅棕色粉末(因含有微量鑭、鐠等)。常溫、常壓下，二氧化鈰是鈰的穩定氧化物。鈰還能形成+3價的Ce2O3，其不穩定，會和O2生成穩定的CeO2。氧化鈰微溶于水、堿和酸。密度7.132 g/cm3，熔點2600℃，沸點3500℃?。?氧化鈰的拋光機制CeO2顆粒的硬度并不高，如下表所示，氧化鈰的硬度遠低于金剛石、氧化鋁，也低于氧化鋯和氧化硅，與三氧化二鐵相當。因此僅從機械方面來看，以低硬度的氧化鈰去拋光基于氧化硅的材料，如硅酸鹽玻璃、石英玻璃等，是不具有技術可行性的。但是氧化鈰卻是目前拋光基于氧化硅材料甚至氮化硅材料的較好拋光粉。可見氧化鈰拋光還具農業生產體系械作用之外的其他作用。常用研磨、拋光材料的硬度材料金剛石在CeO2晶格中通常會出現氧空位使得其理化性能發生變化，并對拋光性能產生一定的影響。常用的氧化鈰拋光粉中均含有一定量的其他稀土氧化物，氧化鐠（Pr6O11）也為面心立方晶格結構，可適用于拋光，而其他鑭系稀土氧化物沒有拋光能力，它們可在不改變CeO2晶體結構的條件下，在一定范圍內與之形成固溶體。對高純納米氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）而言，氧化鈰（VK-Ce01）的純度越高,拋光能力越大,使用壽命也增加,特別是硬質玻璃和石英光學鏡頭等長時間循環拋光時,以使用高純度的氧化鈰拋光粉（VK-Ce01）為宜。?氧化鈰拋光粉的應用：氧化鈰拋光粉（VK-Ce01），主要用于玻璃制品的拋光，其主要應用于以下領域：1.??眼鏡、玻璃鏡片拋光；2.?光學鏡頭、光學玻璃、透鏡等；3.?手機屏玻璃、手表面（表門）等；4.??液晶顯示器各類液晶屏；5.??水鉆、燙鉆（發卡，牛仔褲上的鉆石）、燈飾球（大型大廳內的豪華吊燈）；6.??水晶工藝品；7.?部分玉石的拋光?目前氧化鈰拋光的衍生：氧化鈰表面摻鋁以顯著提高其拋光光學玻璃在南昌大學稀土與微納功能材料研究中心的金 靇 , 孫戊辰 , 焦曉燕 , 李艷花 , 羅 巍 , 李永繡等人，提出拋光粒子的復合化和表面修飾是目前提高CMP拋光效率和精度的主要方法和途徑。因為通過多組分元素的復合可以調諧粒子性能 , 并通過表面修飾來提高拋光漿料的分散穩定性和拋光效率。摻雜 TiO2 的 CeO2粉體的制備和拋光性能 , 可以使拋光效率提高工作效率 50%以上 , 同時 , 表面缺陷也降低 80%。 CeO2?ZrO2 , SiO2 2CeO2 復合氧化物的協同拋光效果 ;因此 , 摻雜氧化鈰微納米復合氧化物的制備技術對于發展新型拋光材料,探討拋光機制具有非常重要的意義。除了摻雜量外 , 摻雜物在合成粒子中的狀態和分布對其表面特性和拋光性能的影響也非常大 。其中，具有包覆態結構的拋光粒子的合成更加引人矚目。因此，合成方法及條件的選擇也非常重要，尤其是那些簡單易行成本又低的方法 。以水合碳酸鈰為主要原料，采用濕固相機械化學法來合成鋁摻雜氧化鈰拋光粒子。在機械力作用下，水合碳酸鈰大顆粒可以被解理成細小顆粒，而硝酸鋁則與氨水反應形成無定形的膠體粒子。這種膠體粒子易于附著在碳酸鈰顆粒上，經干燥和煅燒，可以在氧化鈰表面實現鋁的摻雜。采用這種方法合成了不同鋁摻雜量的氧化鈰粒子，并對其拋光性能進行了表征，適量鋁摻入氧化鈰粒子表面后，將導致表面電位負值的加大，進而使磨料顆粒間存在更強的靜電斥力，促進磨料懸浮穩定性提高。與此同時，磨料粒子與帶正電荷的軟質層之間的通過庫侖引力的相互吸附作用也將加強，有利于磨料與被拋玻璃表面軟質層的相互接觸 , 促進拋光速率的提高。? [詳情]

納米二氧化硅的改性以及在涂料中的應用??納米二氧化硅為納米材料之一， 表面帶有羥基， 粒徑通常為20~60 nm， 分散性好，比表面積大，是目前世界上大規模工業化生產的產量較高的一種納米粉體材料，廣泛應用于電子封裝材料、高分子復合材料、塑料、涂料、橡膠、顏料、 陶瓷、膠黏劑、玻璃鋼、藥物載體、化妝品及平衡菌落材料等領域。納米二氧化硅具有較強的紫外和紅外反射特性，添加到涂料中能對涂料形成屏蔽作用，達到抗紫外老化和熱老化的目的，增加涂料的隔熱性。同時，納米二氧化硅具有三維網狀結構，擁有龐大的比表面積，表現出較大的活性，能在涂料干燥時形成網狀結構， 同時增加了涂料的強度和光潔度，而且提高了顏料的懸浮性，能保持涂料的顏色長久不變。近年來，納米二氧化硅運用于涂料中得到了較快的發展。?一、納米二氧化硅的表面改性 粉體納米二氧化硅容易團聚，直接加入涂料中難以達到真實意義上的納米級均勻分散，故需要先進行表面改性，提高其分散性，然后與涂料相結合，才能實現真實納米二氧化硅與涂料的穩定結合。納米粒子表面改性的方法有醇酯化法、 偶聯劑法、表面活性劑法、接枝聚合法和高能法等。 ? ?1、醇酯化法 醇酯化法是用脂肪醇與納米二氧化硅表面的羥基發生化學反應，脫去水分子， 而納米二氧化硅表面的羥基則被烷氧基取代，反應需在高溫高壓下進行。 ??2、硅烷偶聯劑法 硅烷偶聯劑法是納米二氧化硅改性較常用、較傳統的一種改性方法。硅烷偶聯劑具有雙向反應功能的化學物質，能夠使聚合物與納米二氧化硅的結合界面成為化學鍵結合，顯著提高了納米二氧化硅的補強性能。??3，聚合物接枝改性法 聚合物接枝改性法是指農業生產體系單體在納米二氧化硅的表面進行單體聚合的反應。首先表面活性劑與納米二氧化硅表面羥基發生作用；其次加入溶劑化的農業生產體系單體；然后單體以表面活性劑為起點發生原位聚合接枝到納米二氧化硅表面上。 ??4，表面活性劑法 表面活性劑法改性納米二氧化硅有2種方式：一種是物理吸附法；一種是化學反應法，即表面活性劑中的反應基團與二氧化硅粒子表面活性基團反應，形成了新的化學鍵，從而達到對納米粒子表面修飾和改性的目的。 ? ?5、同步改性法 同步改性法又稱原位改性，即在溶膠-凝膠法制備納米二氧化硅的過程中加入了農業生產體系改性劑，或是制備溶膠時直接加入需要改性的農業生產體系體系中，此時生成的納米粒子粒徑小，表面能較強，促使納米粒子與農業生產體系體系中的農業生產體系鏈相結合。?6、高能改性方法 高能改性法是利用微波、等離子體等對納米二氧化硅表面進行改性。可以使化學法難以引發的結合羥基產生了具有引發活性的活性基團，進而促使改性劑在其表面反應。 ??二、納米二氧化硅在涂料中的應用 ?1、納米二氧化硅在建筑涂料中的應用 將納米二氧化硅添加到建筑涂料中可提高涂料的附著力、耐擦洗性、耐候性、強度硬度、韌性彈性、耐老化、平衡菌落、預防光線直射等特性，顯著改善了涂料的自清潔、防水防滲、防磨損、腐蝕、保色性等性能，因而在改性外墻涂料方****有較好的效果。???2、納米二氧化硅在金屬防護涂料中的應用 在金屬防護涂料中加入納米二氧化硅，會使得涂料的質量有進一步提升。 許多研究人員對納米二氧化硅的作用做出了嘗試，結果表明，納米二氧化硅可以明顯增強金屬防護涂料的炭質層強度。而且還會提高鋼類建材的耐火較限。???3、納米二氧化硅在紫外固化涂料中的應用 納米二氧化硅具有較強的紫外吸收、紅外反射特性。分光光度儀測試表明，它對波長400 nm以內的紫外光吸收率高達70%以上，對波長400 nm以內的紅外光反射率也達到70%以上。它添加到涂料中能對涂料形成屏蔽作用，達到抗紫外老化和熱老化的作用，同時增加了涂料的隔熱性。??4、納米二氧化硅在彩色噴墨打印紙涂料中的應用 國內彩色噴墨打印紙由于不透明度、清晰度、分辨率、打印密度、防水性能以及色彩還原等方面與國外幾家品牌產品存在差距，故國內打印紙市場主要被日本和美國幾家品牌產品占有。將納米二氧化硅應用到噴墨打印紙涂料，有效改善了彩色噴墨打印紙的性能。??5、在其他方面的應用 納米二氧化硅在涂料中的應用，可以有效地改善涂料的很多性能指標。如納米二氧化硅添加到涂料里從而提高涂層的防腐能力。另外，在成膜過程中，納米二氧化硅粒子可以有效地改善乳膠粒之間、乳膠粒與填料之間的界面結合張力， 達到增強和修補缺陷的作用，從而有效改善涂料成膜后的機械性能。 ? ?三、納米二氧化硅在涂料應用領域的發展前景 納米作為涂料的重要助劑之一，它的開發與應用為涂料的發展注入了新的精力，可利用其各種特殊效應來提高涂料的多方面性能，所配制的功能性涂料和綜合性能不錯的高等涂料可以滿足現代工業發展的需要，這對涂料的發展起著十分重要的推進作用。尤其是納米在墻體涂料、金屬涂料、塑料涂料、紫外固化涂料、噴墨紙涂料、水性木器涂料等中的應用均取得了不錯的效果。? [詳情]

納米二氧化鈦/硅藻土復合材料光催化性能實驗關鍵詞：納米二氧化鈦、納米TIO2、JR05、宣城晶瑞、杭州萬景、VK-TG01、光催化二氧化鈦進入新世紀，低碳、節能、環保等問題成為人們的 關注焦點。環境污染隨經濟的快速發展越來越嚴重， 人們在力圖尋找各種方式方法治理或減輕環境污染。 納米二氧化鈦用作光催化劑具有光催化效率高、無害性、化學穩定性好等特點，目前已廣泛應用于各種廢水、廢氣光催化處理中。由于 TiO2 粒徑小，光催化反應后容易流失，所以近年來研究者們對 TiO2 的固定化做了大量工作。礦物材料作為 TiO2 復合光催化 劑的載體已有大量的研究，如蒙脫石 、凹凸棒石 ?沸石 等作為基體材料。硅藻土一般是由統稱為硅藻的單細胞藻類死亡以后的硅酸鹽遺骸形成的，其本質是含水的非晶質 SiO2。硅藻土具有孔隙度大、吸附性強、化學性質穩定、耐磨、耐熱等特點，因此常被用于廢水、廢氣處理領域。目前，納米二氧化鈦復合光催化劑的制備常采用溶膠 - 凝膠法、共沉淀法等，本實驗即以納米二氧化鈦和硅藻土為原材料，在水介質的機械研磨體系中，采用機械力活化法制備成負載型 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料，進而研究不同光照時間下復合材料對甲基橙溶液的降解，通過測定其光催化降解率評價復合材料的光催化性能。該實驗結果對于降低 TiO2 作為光催化劑的使用成本，提高 TiO2 光催化劑的催化效果和應用范圍具有重要意義。1? 實驗部分1.1?原材料及儀器 實驗原材料及試劑：硅藻土，40~60 目，納米 TiO2，規格 VK-TG01，TiO2≥ 99.5 %，粒徑 10-15?nm，批號：，杭州萬景新材料有限公司。化學試劑甲基橙，C14H14N3NaO3S，分子 量 327.35，；三乙醇胺， 分析純，批號：，C6H15NO3，北京化工廠。 主要儀器：GSDM-S 型超細攪拌磨；HXSEI 光化 學反應儀；TGL-16C 離心機；。 1.2 TiO2/ 硅藻土復合光催化劑的制備 實驗采用 超細攪拌磨，磨機的操作參數為轉速 1000 r/min；磨 介 球 采 用 3 種 直 徑，其 比 例 為 Ф3mm∶Ф2mm∶ Ф1mm=5∶3∶2，球料比 3∶1。按硅藻土與納米 TiO2不同配比，加入納米 TiO2 質量分數 1 % 的三乙醇胺作 為分散劑，在超細攪拌磨上混合研磨 80 min，即制得 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料 1#、2#、3#、4#、5#、6# 樣品 （1#：硅藻土；2#：80 %硅藻土- 20 % TiO2；3#：60 %硅藻 土- 40 % TiO2；4#：40 %硅藻土- 60 % TiO2；5#：20 %硅 藻土 - 80 % TiO2；6#：TiO2）。1.3 光催化反應實驗 以甲基橙作為目標降解物進 行光催化活性測定。取 300 mL 甲基橙溶液（15 mg/L） 和 1 g 復合材料混合后倒入光催化反應儀中；將懸浮 液置于暗處力度強磁力攪拌 30 min；待吸附平衡后，用 300 W 高壓汞燈照射懸浮液不同時間；取樣進行兩次 離心（10000 r/min，10 min/ 次），吸取一定量的上清液； 利用分光光度儀測量上清液在 λ=462.5 nm 處的吸光 度；根據光照前后吸光度（或濃度）的變化，按下式計 算甲基橙溶液的降解率。 D=(A0-A)/A0×高標準= (C0-C)/C0×高標準 其中，D 為降解率，%；A0、A 為起始甲基橙溶液和光 照一定時間后的吸光度，Abs；C0、C 為溶液初始濃度 與光照后的濃度，mg/L。2? 結果與討論2.1 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料的 XRD 分析 采 用 X 射線衍射儀對 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料 1#、 2#、3#、4#、5#、6# 樣品進行了表征，可 知，硅 藻 土 的 物 相 為 美 蛋 白 石 （Cacholong），TiO2 的物相為銳鈦礦（Anatase）。從硅 藻土的 X- 射線衍射圖可看出，在 2θ 為 21.8。、39.1。 等處出現硅藻土的 SiO2 特征衍射峰；而在 TiO2/ 硅藻 土復合材料的樣品中，在 2θ 為 25.4。、37.05。、47.8。、 53.2。、57.7。等處出現銳鈦礦型 TiO2 特征衍射峰，而且 隨著 TiO2 質量分數的增加，TiO2 衍射峰逐漸增強，而 硅藻土衍射峰逐漸減弱，這說明硅藻土的表面大部分 被 TiO2 所覆蓋。 2.2 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料的 SEM 圖 采用 掃描電鏡觀察了 1#、2#、3#、4#、5# 樣品的表面形貌，可看出，硅藻土具有孔道結構，其孔徑約 為 150 nm；硅藻土具有良好的吸附性是由其孔道結 構決定的。納米 TiO2 粒子附 著在硅藻土的表面并填充孔隙，納米 TiO2 顆粒多以 團聚態存在。可看出，80 % TiO2 粒子與硅藻 土復合時，由于負載量較大，TiO2 粒子將硅藻土包裹 其中，同時大量的 TiO2 粒子團聚，這與 XRD 衍射圖 中硅藻土的 SiO2 特征衍射峰減弱相對應。 2.3 不同光催化劑對甲基橙溶液的光催化效果 TiO2/ 硅藻土復合光催化材料 1#、2#、3#、4#、5#、6# 樣品在 300 W 高壓汞燈照射 20 min、40 min、60 min、80 min、 100 min 的光催化降解結果.可以看出，硅藻土對甲基橙基本沒有光催 化效果，在 100 min 的光照時間內降解率基本沒有； 其它各樣品的光催化降解率隨光照時間的增加而增 加；而且復合光催化劑的光催化降解率隨 TiO2 含量 的增加而增加。5# 樣品即 20 % 硅藻土 - 80 % TiO2 的 甲基橙降解率在光照時間為 60 min 時即達到 90 %， 與純納米 TiO2 的效果基本相同，因此有望作為純 TiO2 的替代品用于光催化降解應用中。結論：1.?以納米 TiO2 和硅藻土為原料，采用機械力活 化方法制備了 TiO2/ 硅藻土復合光催化劑。 2.?2. 在各復合材料樣品中，隨著 TiO2 質量分數的 增加，TiO2 衍射峰逐漸增強，硅藻土衍射峰逐漸減弱， 硅藻土的表面大部分被 TiO2 所覆蓋。3.??3. 硅藻土對甲基橙基本沒有光催化效果，復合光 催化劑的光催化降解率隨 TiO2 含量的增加而增加， 60 min 后，樣品 20 % 硅藻土 - 80 % TiO2 的光催化降 解率和 TiO2 的降解率相同，因此有望作為純 TiO2 的 替代品用于光催化應用中。宣城晶瑞新材料有限公司是國內較早大規模產業化生產納米二氧化鈦的廠家，目前已經能穩定提供納米二氧化鈦系列粉體及分散液，原生粒徑可控制在5-100nm范圍，比表面積可提供10-100m2/g系列產品。5nm二氧化鈦產品JR05具有自分散，高催化活性，易使用的特點。我司不斷的發展和完善納米二氧化鈦的制備方法，進而獲得粒徑均一、大小穩定、分散性良好的產物；同時也向高純度、高產率、低成本的方向發展；改進生產工藝為獲得更大的催化活性納米二氧化鈦，歡迎廣大新老顧客咨詢！? [詳情]